¿Cómo puede lograr un tamaño de partícula de óxido de cobre submicrónico para aplicaciones de semiconductores?

Nuestra serie de molinos Turbo TM utiliza innumerables fuerzas de vórtice de alta velocidad combinadas con mecanismos de corte e impacto para producir polvos de óxido de cobre ultrafinos con tamaños de partículas de hasta niveles submicrónicos. El entorno de molienda controlado previene la contaminación mientras proporciona la distribución de partículas precisa requerida para el procesamiento de obleas de semiconductores y formulaciones de pastas electrónicas. Contacte a nuestro equipo técnico para discutir sus requisitos específicos de tamaño de partículas y recibir una propuesta de solución de molienda personalizada con garantías de rendimiento.

Con más de 70 años de experiencia en fabricación, nuestras soluciones de molienda de óxido de cobre cuentan con configuraciones personalizadas para diversas escalas de producción, desde unidades de I+D de laboratorio hasta sistemas industriales de alta capacidad. La línea de procesamiento completa incluye nuestro sistema de molienda TM-250 de Applied Materials para la reducción de tamaño controlada, separadores vibro de la serie LK para el tamizado en múltiples capas de hasta 4 tamaños de partículas, y sistemas de reciclaje integrados para materiales de Eva, plásticos, PCB y placas de circuitos integrados. Cada sistema incorpora mecanismos de tamizado de cambio rápido, cámaras de procesamiento libres de contaminación y operación eficiente en energía para maximizar la productividad mientras cumple con los exigentes estándares de los proveedores de materiales semiconductores, fabricantes de materiales para baterías y productores de cerámica avanzada. Nuestras soluciones llave en mano garantizan una calidad constante del polvo de óxido de cobre, una distribución de partículas optimizada y una integración fluida en los flujos de trabajo de producción existentes.